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EUV露光装置の動向調査

2011年5月23日
みずほ情報総研 サイエンスソリューション部 石原 範之

  • 本稿は、 平成22年度 極端紫外線露光システム開発機構(EUVA)成果報告会における講演予定の予稿を掲載しております(成果報告会は震災の影響のため中止)。本内容はEUVAの委託調査により、EUVAとの協議により実施したEUV技術動向調査をもとに作成したものです。

目的・背景

半導体は多くの産業において製品やサービスの高機能化や生産性向上を実現するキーテクノロジーであり、日本の産業のために不可欠な製品である。半導体産業の特徴の1つとして微細化による絶え間ない技術革新があり、微細化によって消費エネルギーの低減、1チップ辺りのコストの低減、高機能化など様々なメリットが生み出される。微細化を実現する技術の中でも露光技術は中心的な技術であり、その中でEUV露光技術は液浸ArF露光技術に代わるhp22nm以降の最有力候補である。

本稿はEUV露光技術について以下の内容を報告したものである。

内容

EUV露光装置の現状

  • 装置メーカーの受注導入実績・ロードマップ
  • デバイスメーカーの微細化ロードマップ・取り組み
  • 欠陥検査インフラ整備状況

市場予測

  • 予測手順
  • 普及速度(品種別)
  • 半導体市場予測
  • EUV露光装置市場予測
  • EUV光源市場予測

結果概要

装置メーカー

  • ASMLの試作機NXE:3100は6台受注で1号機は出荷済み、量産機NXE:3300も既に9台受注し市場が立ち上がった。

デバイス・メーカー

  • メモリ・メーカーは2013年ごろ量産開始見込み
  • Foundry・Logicでは導入に慎重で2015年以降から量産開始見込み

装置市場予測

  • EUV露光装置 2016年に4,172億円、2020年に7,566億円に達する見込み
  • EUV光源市場 2020年に757億円 メンテナンス市場は2020年に413億円達する見込み

広報室
03-5281-7548

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