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電子線散乱シミュレーター 概要

みずほリサーチ&テクノロジーズでは、電子線リソグラフィシミュレーター、SEM・STEM像解析シミュレーターなど電子線散乱シミュレーション技術を用いソリューションを提供しています。

電子線散乱シミュレーターシリーズの概要

電子線散乱シミュレーターには幅広い適用分野があります。電子線応用技術は、次世代のキーテクノロジーとして必要不可欠です。次世代リソグラフィ技術はもとより、マスク描画、光ディスク用描画装置、SEMやTEMなどによる欠陥、測長などの検査・評価装置、滅菌、電子線硬化材料装置として、電子線応用技術は重要な役割を担っていくと考えられます。

システム構成

システム構成

シミュレーション・コア

シミュレーション・コア

物質中の電子散乱過程をモンテカルロ法により解析します。2次電子の発生を考慮した高精度解析モデルを採用することにより、表面からの反射電子・2次電子のモニタリング機能、2次電子の影響を考慮した後方散乱の解析、近接効果の解析等極めて高精度な電子線散乱解析ができます。

関連情報

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3次元SEM・STEM解析シミュレーター「FabMeister-EB」は、実験データの解釈において理論的なアプローチを試みることに始まり、計測・評価技術の実用化支援を目指しています。

電子線リソグラフィにおける露光、酸の発生・拡散を考慮した現像前処理、および現像に至る一連のプロセスの解析ツールです。LER解析機能、最適プロセス条件の抽出機能等があります。

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